为了满足 电子工业生产用水，如单晶硅超纯水、半导体纯水、集成电路块用水、IC芯片封装用水、显象管用水、玻壳超纯水、LCD液晶清洗用水、光学水，光学玻璃清洗用水、光电超纯水、热电厂用水、冶金工业用水、化工纯水、轻工工程用水、汽车制造清洗用水、制药纯化水、医疗卫生等制造工业用纯水。 ●单晶硅超纯水、半导体纯水、集成电路用水、IC芯片封装行业纯水、太阳能硅片清洗水等行业的生产需要
我公司采用三种方式制取 ： 1、采用离子交换方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI
EDI主要有以下部分组成：
（1〕淡水室 将离子交换树脂填充在阴阳离子交换膜 之间形成淡水单无。
（2）浓水室 用网状物将每个EDI单元隔开，形成了浓水室
（3） 极水室
（4） 绝缘板和压紧板
（5）电源及水路连接。
