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酸性蚀刻液再生循环系统—直接电解

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 酸性蚀刻液再生循环系统—直接电解的用途和特点:

1.1系统简述

本系统是采用膜电解技术,用离子膜将电解槽分隔成阳极区和阴极区两个独立的区域,阳极区为用后蚀刻液再生区,它使提铜后的蚀刻液中的一价铜离子,通过氧化反应生成二价铜离子,废蚀刻液从而获得再生,经调整后可以返回蚀刻机循环再使用;阴极区为铜回收区,由于离子隔膜对离子的特殊选择使溶液中的离子定向迁移,让溶液中的铜离子得以还原成金属。其主要性能如下:

(1) 将用后蚀刻液进行再生,经再生后的蚀刻液可以循环使用;
(2) 将用后蚀刻液中的铜进行回收,还原成高纯度(含铜量99%)以上的电解铜粉,铜回收率100%;
(3) 设备操作简单,自动化程度高,技术先进。

1.2 系统回收利用原理

 在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果,要使蚀刻液达到最佳的蚀刻效果,就必须将蚀刻液中的铜离子(Cu+)、氧化还原值、氯离子(Cl-)和酸当量保持在一个合理稳定的范围内,要持续蚀刻液中上述各种成份的最佳浓度,就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『用后蚀刻液』。而该系统则可将原本需要排放的『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』,它只需添加极少量的补充剂,补偿因蚀刻过程中损失的部分就可以循环使用;质量保证,欢迎咨询洽谈。

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