本设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动 。
概述:清洗对象:晶片
1超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。
2工艺过程:上料、支离子水超声清洗、去离子水加热清洗、去离子水冲洗、下料
3结构特点:本设备为柜体式,操作面带有透明门窗。
4每个清洗槽互不影响,超声、冲洗清洗槽的上给水(冲洗清洗槽配有热水)、下排水为手动方式。
5电控部分采用密封保护方式配有紧急停机装置。
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更新日期2011-08-27 14:28
品牌: |
智研 |
所在地: |
江苏 无锡市 |
起订: |
未填 |
供货总量: |
未填 |
有效期至: |
长期有效 |
本设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动 。
概述:清洗对象:晶片
1超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。
2工艺过程:上料、支离子水超声清洗、去离子水加热清洗、去离子水冲洗、下料
3结构特点:本设备为柜体式,操作面带有透明门窗。
4每个清洗槽互不影响,超声、冲洗清洗槽的上给水(冲洗清洗槽配有热水)、下排水为手动方式。
5电控部分采用密封保护方式配有紧急停机装置。
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