硅钢片1949年美国制成厚度小于0.1mm的冷轧（110）[001]取向薄硅钢带，用于电子工业。1957年联邦德国制成了（100）[001]立方取向硅钢片，其纵横向磁性都高，但因工艺复杂，至今未正式生产。图2是（110）[001]和（100）[001]取向硅钢片中晶粒排列示意图。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸缩约为零，磁导率高、铁损低、制成的变压器无噪声但因加工困难，未得到广泛应用。70年代采用液态快冷技术制成6.5Si-Fe微晶薄带，研制了更薄的取向硅钢片和（100）面织构（晶间无取向）的硅钢片等新品种
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硅钢片硅钢片生产模具 中国于1953年开始生产热轧低硅硅钢片（Si1～2%）；1955年开始生产热轧高硅硅钢片(Si3.0～4.5%）；1962年开始生产冷轧取向薄硅钢带。70年代开始生产冷轧取向硅钢带。冷轧无取向硅钢片是将钢坯或连铸坯热轧成厚度约2.3mm带卷。制造低硅产品时，热轧带卷酸洗后一次冷轧到 0.5mm厚。制造高硅产品时，热轧带酸洗后（或先经800～850℃常化后再酸洗），冷轧到0.55或0.37mm厚，在氢氮混合气氛连续炉中850℃退火，再经6～10%小压下率冷轧到0.50或0.35mm厚。这个小压下率的冷轧可使退火时晶粒长大，铁损降低。这两种冷轧板都在20%氢氮混合气氛下连续炉中850℃最终退火，然后涂磷酸盐加铬酸盐的绝缘膜。晶粒取向硅钢一般都含Si3%，要求钢中氧化物夹杂含量低，并必须含有C0.03～0.05%和抑制剂（第二相弥散质点或晶界偏析元素）。抑制剂的作用是阻止初次再结晶晶粒长大和促进二次再结晶的发展，从而获得高的（110）[001]取向。抑制剂本身对磁性有害，所以在完成抑制作用后，须经高温净化退火。采用第二相抑制剂时，板坯加热温度必须提高到使原来粗大第二相质点固溶，随后热轧或常化时再以细小质点析出，以便增强抑制作用。冷轧成品厚度为0.28、0.30或0.35mm，工艺要点见表3。冷轧取向薄硅钢带是将0.30或0.35mm厚的取向硅钢带，再经酸洗、冷轧和退火制成\硅钢的轧制分为热轧和冷轧两个工序，传统的采用热轧直接生产硅钢成品的工艺目前已经很少采用，主要为热轧和冷轧两个工序来生产，称为冷轧硅钢产品。根据产品不同，冷轧工序分为多机架轧机轧制和单机架轧制，其中单机架轧制主要生产取向硅钢产品。硅钢主要用氧气转炉冶炼（也可用电弧炉冶炼），配合钢水真空处理和AOD技术（见炉外精炼，采用模铸或连铸法。根据不同的用途，冶炼时改变硅（0.5～4.5%）和铝（0.2～0.5%）含量以满足不同磁性的要求。高牌号硅钢片的硅和铝量相应提高。碳、硫和夹杂物尽量减少。
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