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苏州华林科纳半导体技术设备有限公司

半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等

普通会员

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显影清洗、刻蚀清洗、去胶清洗台、无机清洗

产品价格面议

产品品牌CSE

最小起订≥1 台

供货总量111 台

发货期限自买家付款之日起 60 天内发货

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企业旺铺http://hualinkena.sjooo.com/

更新日期2015-08-21 16:46

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苏州华林科纳半导体技术设备有限公司

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商品信息

基本参数

品牌:

CSE

所在地:

江苏 苏州市

起订:

≥1 台

供货总量:

111 台

有效期至:

长期有效

型号:

CSE-SL09-STX

用途:

适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺

规格:

3000*1500*2000mm
详细说明

产品简介:

 

本设备用于硅材料行业中,用于硅棒制备设备所用的石墨器件和其他工序反复使用的石墨器件进行腐蚀、清洗、烘干,

具有较快的清洗速度和较高的清洗质量,清洗的石墨件最大尺寸为Φ800×800(mm)。

工件进出清洗槽人工操作外,其余酸浸、浸煮、配酸、补酸、烘干脱水过程能够自动完成,并能设定各工序时间。

确保设备材料耐强酸腐蚀(HCl+HNO3)。

 

 

部分客户:

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关于我们:

 

苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资成立于2008年3月,投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发、技术推广和生产销售。
公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,研发生产中高端半导体设备。公司以品质为根本,以创新为突破点,走设备研发与工艺研究相结合的道路,使设备能够满足和引领最新的工艺。公司的研发团队由张宝顺博士、王敏锐博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。
 

主要产品:显影机,RCA清洗机,EKC清洗机,外延片清洗机,抛光片清洗机,切片后清洗机,划片后清洗机,石英钟罩清洗机,氢氟酸清洗机,石英坩埚清洗机,硅片清洗机,二氧化硅清洗机,硅周清洗机,硅腐蚀机,挖槽机,记号腐蚀机,铝层腐蚀机,栅氧化清洗机,光刻显影机,光刻后清洗机,蚀刻机,衬件清洗机,蒸发前清洗机,部件清洗机,背面腐蚀清洗机,多层金属腐蚀机,去胶清洗台,背面处理清洗机,外延片清洗机,金属化后清洗机,金属膜刻蚀机,多功能清洗机,硅片腐蚀机,SK1腐蚀机,立式钟罩清洗机,花篮清洗机,超声波清洗机,兆声波清洗机,湿法清洗台,蓝宝石基片清洗机,砷化钾片清洗机,锗片清洗机,二流体清洗机,氮气储存柜,装片机,甩干机,IPA干燥机,烘干机,CDS系统,尾气处理机,硅片镀金台,倒片机,单片清洗机,边缘SiO2剥离机,硅微粉清洗机,液晶湿法清洗机,液晶减薄刻蚀机,玻璃清洗机,ADD电极显影机,BUS电极显影机,ITO PR剥膜机,ITO PR显影机,ITO刻蚀机,RIB PR显影机,电极再生清洗机,介质障壁再生清洗机,荧光体再生清洗机,SM清洗机,PR前清洗机,PI后清洗机,多晶硅料(块)清洗机,单晶硅料(块)清洗机,硅料酸洗机,硅芯硅棒清洗机,硅片制绒清洗机,电池片酸洗设备,去磷硅玻璃清洗机,石英管清洗机,石墨清洗机,石墨煮沸机,石墨件清洗机,白玻璃清洗机,光刻后玻璃清洗机,磨边后玻璃基板清洗机,PIN薄膜沉积前清洗,HF供酸机,HNO3供酸机,HCL供酸机,手动背面去胶机,LED晶片清洗机,硼扩散清洗机,退火清洗机等。

 
我们期待与您的合作
欢迎来询:18915583873  王女士  QQ:1296472079

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