产品简介：
本设备适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。
设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。
清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。
关键件均采用进口原件，包括气动阀，PFA管道，全氟循环系统等，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。
整体采用德国进口工程塑料焊接组合加工而成，结构合理，外型美观。
工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。
人机界面为触摸屏，方便直观，操作简便。
.除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。
设备适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。
非标规格，具体规格依客户工艺确定。
部分客户：
关于我们：
主要产品：显影机，RCA清洗机，EKC清洗机，外延片清洗机，抛光片清洗机，切片后清洗机，划片后清洗机，石英钟罩清洗机，氢氟酸清洗机，石英坩埚清洗机，硅片清洗机，二氧化硅清洗机，硅周清洗机，硅腐蚀机，挖槽机，记号腐蚀机，铝层腐蚀机，栅氧化清洗机，光刻显影机，光刻后清洗机，蚀刻机，衬件清洗机，蒸发前清洗机，部件清洗机，背面腐蚀清洗机，多层金属腐蚀机，去胶清洗台，背面处理清洗机，外延片清洗机，金属化后清洗机，金属膜刻蚀机，多功能清洗机，硅片腐蚀机，SK1腐蚀机，立式钟罩清洗机，花篮清洗机，超声波清洗机，兆声波清洗机，湿法清洗台，蓝宝石基片清洗机，砷化钾片清洗机，锗片清洗机，二流体清洗机，氮气储存柜，装片机，甩干机，IPA干燥机，烘干机，CDS系统，尾气处理机，硅片镀金台，倒片机，单片清洗机，边缘SiO2剥离机，硅微粉清洗机，液晶湿法清洗机，液晶减薄刻蚀机，玻璃清洗机，ADD电极显影机，BUS电极显影机，ITO PR剥膜机，ITO PR显影机，ITO刻蚀机，RIB PR显影机，电极再生清洗机，介质障壁再生清洗机，荧光体再生清洗机，SM清洗机，PR前清洗机，PI后清洗机，多晶硅料（块）清洗机，单晶硅料（块）清洗机，硅料酸洗机，硅芯硅棒清洗机，硅片制绒清洗机，电池片酸洗设备，去磷硅玻璃清洗机，石英管清洗机，石墨清洗机，石墨煮沸机，石墨件清洗机，白玻璃清洗机，光刻后玻璃清洗机，磨边后玻璃基板清洗机，PIN薄膜沉积前清洗，HF供酸机，HNO3供酸机，HCL供酸机，手动背面去胶机，LED晶片清洗机，硼扩散清洗机，退火清洗机等。
联系电话：18915583873 王女士 QQ：1296472079
